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標題: (Japanese Jorunal of Applied Physcis,27(12):L2434-2437)Field-Drifting Resonance Tunneling Through a-Si:H/a-Sil-xCx:H Double Barrier in the p-i-n Structure
作者: Y. L. Jiang
H. L. Hwang
關鍵字: Field-Drifting Resonance Tunneling
a-Si:H/a-Sil-xCx:H
Double Barrier
p-i-n Structure
出版社: Japan:Japan Society of Applied Physics
URI: http://hdl.handle.net/11455/40056
ISSN: 1347-4065
顯示於類別:光電工程研究所

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