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標題: Fabrication and Application of Anisotropic Fe-X (X=Pt, Co) Sputtered Films with Highly Recording Density and Energy Product
高磁記錄密度及高磁能積異向性Fe-X (X=Pt, Co)濺鍍薄膜之製備及應用
作者: 蔡佳霖
關鍵字: 應用研究
材料科技
摘要: 本年度之研究重點為高能積薄膜磁鐵之製備,根據其製程方法及膜層結構設計又可分為(1)單晶垂直異向性L10 FePt 薄膜磁鐵之製備。(2)高能積(硬磁薄膜/軟磁團簇)之新型交換偶合膜製作。(3) 開發並試製MEMS 元件,例如微馬達之轉子。第(1)部份之研究是在證實高能積磁鐵確實能夠以薄膜之方式製作,因此可將薄膜磁鐵整合至微機電或奈米機電之系統中。該研究之目的希望將FePt 顆粒垂直的鑲埋於MgO 氧化物材料中或多孔性之氧化物基材,此時每一島狀L10 FePt 顆粒相當於孤立之單磁區粒子。該研究將以磊晶級之濺鍍法成長具有垂直異向性之FePt 膜,該法可有效控制奈米島狀FePt 顆粒之晶粒分佈度使其更加均勻,且有效調控晶粒間之距離。最終使得每顆FePt 顆粒如同單晶一般,這時磁化反轉行為將近似理想之同調旋轉頗具學術與應用價值。第(2)部份主要研究目的是希望製作出有別於傳統之硬磁/軟磁層交換偶合膜其中最主要之製程差異性在於Co 和Fe 之奈米團簇(nanocluster)之形成,須要於濺鍍系統中加入液態氮(LN2)冷卻之基板及高壓的載流氣體如Ar, He 來增加原子與氣體之碰撞次數使其有足夠之過飽合度生成奈米團簇,這樣子夠小的團簇均勻的散怖於FePt 的基地中,因其晶粒度夠小
URI: http://hdl.handle.net/11455/47528
其他識別: NSC94-2216-E005-023
文章連結: http://grbsearch.stpi.narl.org.tw/GRB/result.jsp?id=1144980&plan_no=NSC94-2216-E005-023&plan_year=94&projkey=PB9408-4622&target=plan&highStr=*&check=0&pnchDesc=%E9%AB%98%E7%A3%81%E8%A8%98%E9%8C%84%E5%AF%86%E5%BA%A6%E5%8F%8A%E9%AB%98%E7%A3%81%E8%83%BD%E7%A9%8D%E7%95%B0%E5%90%91%E6%80%A7Fe-X+%28X%3DPt%2C+Co%29%E6%BF%BA%E9%8D%8D%E8%96%84%E8%86%9C%E4%B9%8B%E8%A3%BD%E5%82%99%E5%8F%8A%E6%87%89%E7%94%A8
顯示於類別:材料科學與工程學系

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