製備金屬氮氧化物膜之方法

Abstract

一種製備金屬氮氧化物膜之方法,係先將一金屬靶材與一基材置入一真空腔體中,該金屬靶材係由鈦、鋯、鉻或其合金所製成,並將背景壓力保持在5�10^-6~5�10^-2 torr;接著,利用物理氣相沈積法於該基材表面形成一金屬氮氧化物膜,沈積時該真空腔體之工作壓力保持於5�10^-4~5�10^-2 torr,並將空氣與氬氣通入該真空腔體中,其中空氣/氬氣之流量比為(12~70)/100;由於空氣之取得較純氧與純氮方便得多,且背景真空度之要求較習知方法為低,使本發明所提供之方法具有設備簡易、製程快速、成本低廉等多重優點。