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標題: 垂直共振腔面射型雷射二極體及其製造方法
作者: 洪瑞華
HORNG, RAY HUA
武東星
出版社: 材料科學與工程學系
摘要: 本發明在提供一種垂直共振腔面射型雷射二極體,以及一種以低溫貼合技術製作該垂直共振腔面射型雷射二極體的製造方法。該垂直共振腔面射型雷射二極體包含一基板、一形成該基板上的第一布拉格反射鏡、一形成於該第一布拉格反射鏡上且與該第一布拉格反射鏡晶格不相匹配的作動區,及一形成該作動區上且與該作動區晶格不相匹配的第二布拉格反射鏡,該第一、二布拉格反射鏡構成一可供光子來回震盪的共振腔,當施加一電能於該作動區時,該作動區可產生複數光子,在該共振腔中反覆震盪形成建設性的干涉向外輸出一雷射。
URI: http://hdl.handle.net/11455/56226
文章連結: http://twpat.tipo.gov.tw/tipotwoc/tipotwkm
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