Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11455/56275
標題: 金屬薄膜之物理氣相沉積方法
作者: 呂福興
LU, FU HSING
李念庭
范慧屏
姚力仁
詹慕萱
LEE, NIEN TING
FAN, HUNG PING
YAO, LI REN
CHAN, MU HSUAN
出版社: 材料科學與工程學系
摘要: 一種金屬薄膜之物理氣相沉積方法,可用以製備鈦、鋁與鈦鋁合金之金屬薄膜,其步驟包含有:於一密閉腔體內置入一基材,以及一由鈦、鋁或鈦鋁合金所製成之靶材,在該密閉腔體內抽真空達6.6×10 -4 ~1.3Pa之背景壓力後,將空氣與氬氣以流量比6/100以下進行混合後的混合氣體通入該密閉腔體,在工作壓力1.3×10 -2 Pa~1.3Pa下,施加電壓於該基材與該靶材,即可於該基材之表面沉積形成金屬薄膜。由於本發明採用隨處可得的空氣,且背景壓力要求不高,具有設備簡單、製程快速、成本低廉等優點。
URI: http://hdl.handle.net/11455/56275
文章連結: http://twpat.tipo.gov.tw/tipotwoc/tipotwkm
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