請用此 Handle URI 來引用此文件: http://hdl.handle.net/11455/56287
標題: 磊晶用基板
作者: 武東星
洪瑞華
吳嘉城
林伯融
出版社: 材料科學與工程學系
摘要: 一種磊晶用基板包含一磊晶用的基材、一形成於基材的犧牲膜,及一磊晶形成於犧牲膜的半導體磊晶膜,犧牲膜包括複數膜區及複數由膜區界定的第一通道,每一膜區具有一奈米材料及複數由奈米材料界定的第二通道,濕式蝕刻劑藉由第一、第二通道得以快速地滲入犧牲膜中,進而快速蝕刻犧牲膜並有效地加速了移除基材的速率。
URI: http://hdl.handle.net/11455/56287
文章連結: http://twpat.tipo.gov.tw/tipotwoc/tipotwkm
顯示於類別:材料科學與工程學系

文件中的檔案:
沒有與此文件相關的檔案。


在 DSpace 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。