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dc.contributor.advisor謝永旭zh_TW
dc.contributor.advisor柯慶明zh_TW
dc.contributor.author張名毅zh_TW
dc.contributor.authorChang, Ming-Yien_US
dc.date1999zh_TW
dc.date.accessioned2014-06-06T06:35:15Z-
dc.date.available2014-06-06T06:35:15Z-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11455/5659-
dc.description.abstract摘要 本研究的主要目的在於發展一簡單實用之光觸媒置備方法,並以此光觸媒進行紫外線/光催化反應,探討反應系統中有機物被氧化的效率。 觸媒是以化學蒸氣沈積法(CVD)製備TiO2觸媒薄膜層於管壁內面之管狀反應器,配合365nm波長之紫外光燈為激發光源,進行染整廢水之異相光催化反應的探討。 本實驗系統採迴流批次式,控制因子包括流速、pH值、光照強度及溶氧等。實驗的進行為經由COD及TOC的分析及其隨著反應時間的變化情形推估反應動力式,並進而了解各控制因子對反應速率的影響趨勢。 在以CVD法製備TiO2觸媒結果,證實以蒸發溫度控制在300±1℃,燒結溫度控制550℃,不僅可使TiO2純度提高,而且結晶構造為anatase晶型。 由UV/TiO2程序在處理染整廢水之應用上,確實有顯著的效果;從背景實驗之不到6%的有機物濃度的變化,可提升至約60%的去除率,如此經適當操作之UV/TiO2之高級氧化程序,亦可將有機物降解以作為生物前處理,而減低微生物之有機負荷。zh_TW
dc.description.tableofcontents目錄 摘要 目錄 表目錄 圖目錄 第一章 前言 第二章 文獻回顧與背景探討 2.1 染整工廠廢水的來源與特性 2.1.1 染料的分類 2.1.2 染整工廠製程 2.1.3 染整廢水的及特性 2.1.4 染整廢水處理方法 2.2 陶瓷、玻璃材料覆膜技術 2.2.1 物理蒸氣沈積法 2.2.2 化學蒸氣沈積法 2.2.3 爆炸熔射法 2.2.4 雷射蒸著法 2.3 半導體的性質 2.3.1 半導體的分類 2.3.2 半導體的特性 2.4 觸媒催化理論 2.4.1 觸媒的衰退 2.4.2 金屬觸媒的毒化 2.4.3 觸媒積碳的形成與再生 2.4.4 觸媒物理特性之分析儀器 2.4.5 觸媒的氧化還原機構 2.4.6 光觸媒的製備方法 2.5 光化學反應 2.5.1 光化學反應理論 2.5.2 光化學反應的分類 2.6 紫外線/光觸媒反應的理論背景及其影響因子 2.6.1 紫外光的性質 2.6.2 光催化二氧化鈦半導體的原理 2.6.3 紫外線/光觸媒程序之發展與應用 2.6.4 紫外線/光觸媒程序之影響因子 第三章 實驗設備與方法 3.1 實驗材料與藥品 3.2 實驗儀器 3.3 實驗裝置 3.4 實驗步驟 3.4.1 光觸媒置備 3.4.2 紫外線/光觸媒氧化程序 3.5 分析測定方法 3.5.1 光觸媒之定性分析 3.5.2 總有機碳分析 3.5.3 化學需氧量分析 3.5.4 生化需氧量分析 第四章 結果與討論 4.1 觸媒製備結果分析 4.1.1 CVD參數控制 4.1.2 觸媒之定性分析 4.2 背景實驗 4.2.1 系統穩定度 4.2.2 揮發實驗 4.2.3 吸附實驗 4.2.4 直接光解實驗 4.2.5 光觸媒去活性實驗 4.3 控制參數探討 4.3.1 pH的影響 4.3.2 流速的影響 4.3.3 光照強度的影響 4.3.4 溶氧的影響 4.3.5 水力停留時間的影響 4.4 礦化實驗與前處理可行性 4.4.1 有機物分解反應 4.4.2 有機碳礦化分析 4.4.3 反應動力式推估 4.4.4 能量效率 4.5 利用自然光源 第五章 結論與建議 5.1 結論 5.2 建議 參考文獻 附錄zh_TW
dc.language.isozh_TWzh_TW
dc.publisher環境工程學系zh_TW
dc.subject紫外線/光觸媒程序zh_TW
dc.subject二氧化鈦zh_TW
dc.subject化學蒸氣沈積法zh_TW
dc.title以UV/TiO2程序處理染整廢水可行性之研究zh_TW
dc.typeThesis and Dissertationzh_TW
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