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標題: 聚焦與感光式微透鏡陣列之製法
作者: 楊錫杭
YANG, SHI HANG
出版社: 精密工程研究所
摘要: 聚焦與感光式微透鏡陣列之製法,主要包括:一、預備步驟;二、曝光成型步驟;三、導電層成型步驟;四、複製翻模步驟;五、徽透鏡成型步驟;六、成品步驟。本發明利用光學微影之近接式曝光法,在光罩與光阻層之間隔一預定空隙,經曝光與顯影後,得以形成微透鏡陣列,再加以電鑄成形為模具,供日後量產。其兼具精密度高且生產成本低、製程穩定及應用範圍廣等各種優異效果;尤其,以不同的間隔部讓紫外線光源產生不同的繞射現象,並以不同的間距照射於光阻層而產生特定幾何外形之微透鏡陣列,可應用於各式微米領域的科技產品中。(一)、本案代表圖為:第二圖(二)、本案代表圖之元件代表符號簡單說明:光罩20 透光孔21 間隔部30抗光層40 基部50 間距d
URI: http://hdl.handle.net/11455/56888
文章連結: http://twpat.tipo.gov.tw/tipotwoc/tipotwkm
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