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標題: A study of optical alignment for super long working distance and nanometer resolution of laser interferometer
超長工作距離奈米解析度雷射干涉式定位儀 之光路校準研究
作者: Yi-Hao Shih
施益豪
關鍵字: 雷射校準
干涉式定位法
Laser Calibration
Interferometric positioning method
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摘要: 本論文主要是探討奈米解析度雷射干涉式光學光路校準問題。雷射干涉位置量測法,具有很高的精度 且工作距離長達數十公尺。目前業界於半導體、LCD製造相關裝置製程中最精密的曝光機設備都是使用雷射定位。研究雷射定位系統,為了提供完善的精準位移定位,本論文設計了新的雷射干涉式光學光路校準方式,快速的達到優越的對準精度,並提升加速部品更換時間,將原本定位有問題上機裝置的雷射頭組,於機台上調整需耗時8~10小時,經由此定位系統平台調校過的雷射頭組,可降低更換時間到1~2小時,加速製造產能的提升,並且大大降低修復時間,此平台可應用在任何具挑戰性超長工作距離奈米解析度製程設備定位運用上。
The purpose of this study was to investigate the nanometer resolution laser interferometric optical light path alignment problems. Laser interferometer position measurement method with high precision and a working distance of up to tens of meters. Currently in the semiconductor industry, LCD manufacturing process related devices the most sophisticated devices are using the laser exposure machine positioning. Research on laser positioning system, in order to provide better positioning precision displacement, this paper designed a new laser interferometric optical light path calibration mode, quickly reached superior alignment accuracy, and improve acceleration time replacement parts, originally positioned in question laser head group on the local device, the machine table adjustment, it will take 8 to 10 hours, thus positioning system platform by tuned laser head group, the replacement time can be reduced to 1 to 2 hours, to accelerate the manufacturing capacity improved, and greatly reduce repair time, this platform can be applied on any challenging long working distance nanometer resolution positioning process equipment use.
URI: http://hdl.handle.net/11455/90532
文章公開時間: 10000-01-01
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