Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11455/16230
標題: 利用全氟磺酸聚合物/二甲基乙二醛二■之汞薄膜修飾電極對水中微量鎳金屬之分析
Determination of Traces of Nickel(II) at a Nafion/ Dimethylglyoxime Mercury Film Electrode
作者: 李妙玲
Lee, Miao-Ling
關鍵字: Modified electrode;修飾電極;Nafion;Adsorption Stripping Voltammetry;全氟磺酸聚合物;吸附剝除伏安法
出版社: 化學學系
摘要: 
本論文主要在探討一種對鎳(Ⅱ)金屬離子具極佳靈敏性的化學修飾電極,
此化學修飾電極由全氟磺酸聚合物/二甲基乙二醛二■及汞薄膜組合而成
,其優點在於:全氟磺酸聚合物的存在,可使汞薄膜穩定,且具有預濃縮
及避免有機界面活性劑干擾的效果。而二甲基乙二醛二■會與鎳(Ⅱ)形成
螯化物,使得電極更具有選擇性。實驗過程中,我們採用方波吸附剝除伏
安法來作為偵測,此法具有較高的靈敏度,同時可避免氧的干擾,可達到
較低的偵測極限。實驗結果顯示,此電極的偵測特性與二甲基乙二醛二■
的濃度、全氟磺酸聚合物/二甲基乙二醛二■的比例、汞薄膜厚度、旋轉
塗覆法的速度、方波吸附剝除伏安法的參數、預濃縮時間、預濃縮電位以
及溶液的氫標值有關。在氫標值等於9.00氨/氯化胺之緩衝溶液,預濃縮
時間5分鐘的條件下,偵測極限可達0.1十億分點,線性範圍在1十億分點
至80十億分點。至於電極的再生可藉由重新塗覆、浸泡酸及電化學三種方
法來達成。干擾方面探討陽離子以及界面活性劑的影響,陽離子方面,鋁
、鎘、鈣、錳、鉛、鉍、汞在濃度等於鎳之1000倍時均不干擾偵測,銅、
鋅須在 100倍以下,鈀在10倍以下方不干擾,而鈷在濃度與鎳相當時即產
生干擾,然而可藉由還原電位的不同,發展為同步偵測。在界面活性劑方
面,當鎳濃度為0.01百萬分點時,界面活性劑濃度增加至鎳濃度50倍以上
方會影響偵測。
URI: http://hdl.handle.net/11455/16230
Appears in Collections:化學系所

Show full item record
 
TAIR Related Article

Google ScholarTM

Check


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.