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標題: 低溫大氣電漿源設計與其在玻璃表面清潔製程之應用
Design of a Low Temperature Atmospheric-Pressure Plasma with Application on Glass Surface Cleaning
作者: 林博鏞
Lin, Po-Yung
關鍵字: atmospheric pressure plasma;大氣電漿;response surface method;Dielectric Barrier Discharge;反應曲面法;介電屏蔽式輝光放電
出版社: 機械工程學系所
引用: 1.曾煥華,電漿的世界,銀禾文化事業有限公司,1987 2. 林春宏、張加強、陳志瑋,”次世代平面顯示器生產技術應用─常壓電漿”,化合物半導體與光電技術,2006年2月 3. A. Sch¨utze, J. Y. Jeong, S. E. Babayan, J.Park, G. S. Selwyn, and R. F. Hicks,”The Atmospheric-Pressure Plasma Jet: A Review and Comparison to Other Plasma Sources”, IEEE Trans. on Plasma Science, Vol. 26, No. 6, pp. 1998. 4. G. S. Selwyn, H. W. Herrmann, J. Park and I. Henins, ” Materials Processing Using an Atmospheric Pressure, RF-Generated Plasma Source”, Contrib. Plasma Phys. Vol 6, pp 610-619, 2001. 5.郭有斌,”微中空陰極陣列常壓電漿與低溫成長碳奈米結構”,成功大學化學工程研究所博士論文,民國92年9月。 6. J. S. Chang, P. A. Lawless and T. Yamamoto, ”Corona Discharge Processes”, Plasma Science, Vol 19, No 6, pp. 1152~1166, 1991. 7. 張家豪,魏鴻文,翁政輝,柳克強,李安平,寇崇善,吳敏文,曾錦清,蔡文發,鄭國川,“電漿源原理與應用之介紹”, 物理雙月刊(廿八卷二期),2006 年4 月 8. 楊明松,”應用於電暈放電之電源供應器設計與研製”,中原大學電機工程學系碩士論文,民國93年7月。 9. 梁國超,”電漿技術於清潔製程之應用” ,環保技術e報(017期),93年8月,http://proj.moeaidb.gov.tw/eta/epaper/epaper/Eco-017.htm 10.陳喜棣,”高週波基礎理論與應用”,全華科技圖書,民國84年。 11. J. D. Getty, ”How Plasma-Enhanced Surface Modification Improves the Production of Microelectronics and Optoelectronics”, Chip Scale Review, pp. 72-75, 2002. JAN-FAB. 13. 林大森,吳卓夫,謝建德,”陳金銘以田口式實驗計畫法應用於奈米粒子超疏水塗料之實驗探討”, 中華民國品質學會第40 屆年會 高雄市分會第30 屆年會,2004/11/6。 14. 陳勇志,”新型低溫常壓電漿系統設計製作及對光阻與聚亞醯材料表面處理之研究”,義守大學材料科學與工程學系碩士論文,民國94年12月。 15王曉萍,”大氣電漿束之特性分析”, 清華大學物理系碩士論文,民國94年6月。 16.陳敏慧,”平版型大氣電漿束之特性分析”, 清華大學物理系碩士論文,民國95年6月。 17. 顏子殷,”積體電路產品封裝後溫度循環試驗結果改善探討”, 朝陽科技大學工業工程與管理碩士論文,民國94年1月。 18.黃政偉,”氦氣在大氣壓介質表面輝光奠下的電性研究”, 清華大學物理系碩士論文,民國95年6月。 19. 藺善文,”以二次反應曲面設計最佳化太薄膜製程參數”,逢甲大學工業工程系統管理學系碩士論文,民國94年1月。 20.呂世欽,”白殭菌蛋白質分解酵素發酵製備之研究探討”, 朝陽科技大學應用化學系碩士論文,民國93年7月。 21. http://www.stat.uconn.edu/~studentjournal/index_files/pengfi_s05.pdf 22. http://en.wikipedia.org/wiki/Power_transform
摘要: 
隨著平面顯示器(Flat panel display)產業不斷朝向更高精度、更小線寬的產品邁進,基材的潔淨度亦需跟者提升,而清洗所使用之水資源亦更多。大氣電漿(Air plasma)由於具備不需真空系統、可線上連續作業、成本低等優點,已逐步取代部份的溼式水洗製程。
本研究主要目的在設計一套可使用於平面顯示器製程之大氣電漿源系統,其中電漿生成的方式是利用介電屏蔽式輝光放電(Dielectric barrier discharge)搭配RF電源,並選擇氬氣與氧氣作為反應氣體。
在實驗驗證方面則是藉由反應曲面法進行實驗設計,求取電漿源反應之最佳參數,再透過水滴接觸角的量測,以確認本研究提出之大氣電漿源能符合現階段產品表面潔淨度之要求。
多次實驗結果驗證以本研究之大氣電漿源清洗後之基板,其水滴接觸角皆小於10°,符合業界對清潔製程標準之要求,可實際應用於平面顯示器之後段模組製程,取代目前業界普遍使用之國外大氣電漿源設備。

Due to the increasing demands in high precision and small line width on flat panel display (FPD) device, the cleanness of the wafer surface becomes a crucial issue in the FPD industry. The atmospheric pressure plasma that possesses advantages such as no need of a vacuum system, continuously on-line operating feasibility, and cost effective has gradually replaced some of the water cleaning processes.
The main goal of this research is to design and fabricate an atmospheric pressure plasma source for the FPD industry. In this plasma source, the dielectric barrier discharge method combined with a radio frequency power source was adopted as the power source for plasma producing. The reaction gases were argon and oxygen.
The response surface method was used to design and conduct the experiments to test the performance of the proposed plasma source in terms of the contact angle on the wafer that was cleaned by the plasma source. The experimental results illustrated that the contact angles on the plasma cleaned wafer were less than 10
URI: http://hdl.handle.net/11455/1979
其他識別: U0005-0408200815380500
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