Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11455/2076
標題: 熱成長氧化膜防制AISI430不銹鋼氫脆及腐蝕之研究
The Study of Thermally Grown Oxide Films Prevent AISI 430
作者: 蔡瀛洲
Hello
關鍵字: Oxide Films;氧化膜;Stainless Steel;Hydrogen Embrittlement;Corrosion;不銹鋼;氫脆;腐蝕
出版社: 機械工程研究所
摘要: 
本研究以AISI430不銹鋼為材料,以不同的氧化處理溫度,氧化時間形成表
面氧化層,並進一步探究此氧化層的形成對防制氫脆及抗腐蝕的效果.利用
陰極充氫會使材料產生氫脆,其程度隨著充氫電流和時間的增加而增加,而
由裂縫形成能量公式可解釋430不銹鋼之氫脆屬於硬化理論,利用數學模式
的分析可間接求得430不銹鋼之臨界氫濃度值. 430不銹鋼的氧化行為在早
期是以界面控制反應,隨著氧化的持續進行而漸漸轉變為擴散控制反應.利
用加熱在表面形成的氧化物係由鐵和鉻的氧化物所組成,對氫的滲入具有
防止的效果,經分析後發現阻止氫脆是因氫在氧化物的擴散係數較低所造
成的,而利用極化曲線觀察其腐蝕特性後發現氧化溫度700℃-900℃成長氧
化膜之抗蝕性能會提升,其餘氧化條件成長之氧化膜則無法有效改善其抗
腐蝕性,經AES表面分析後發現抗蝕能力提升之主因為富鉻層的出現.
URI: http://hdl.handle.net/11455/2076
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