Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11455/47497
標題: 氧含量對鎳鐵/鎳鐵氧化物奈米雙層薄膜之結構及磁性質研究
Effects of Oxygen Content on Structural and Magnetic Properties of NiFe/NixFe1-xO Bilayers
作者: 林克偉
關鍵字: 交換偏壓;材料科技;鎳鐵/鎳鐵氧化物薄膜;磁電阻;雙離子束濺鍍技術;應用研究
摘要: 
交換偏壓特性源自於鐵磁性與反鐵磁性間之直接交換偶合作用。其主要特徵為鐵磁性材料磁滯曲線沿外加磁場方向偏移及矯頑磁力之強化。近年來,磁感測器及磁性隨機存取記憶體等奈米磁儲存科技之廣泛應用與此界面磁反應特性有密切關係。先前研究[1]顯示:由離子束濺鍍系統製備之磁性薄膜具有精確控制離子束能量、濺鍍方向性及離子束能量最佳化等優點。本研究利用雙離子束濺鍍系統[2]製備鎳鐵/鎳鐵氧化物奈米交換偏壓雙層薄膜。其中鎳鐵薄膜由Kaufman 離子源直接濺鍍鎳鐵靶材,而鎳鐵氧化物薄膜由End-Hall 離子源之氧氣撞擊基材並動態氧化鎳鐵原子而得。研究方向著重氧含量對鎳鐵/鎳鐵氧化物雙層薄膜之微觀結構及交換偶合效應,並探討鎳鐵/鎳鐵氧化物雙層薄膜之室溫及低溫磁性質。掃瞄式電子顯微鏡及X 光繞射儀用以鑑定薄膜之組成及其晶體結構;穿透式電子顯微鏡(TEM)用以分析薄膜之微觀結構。薄膜之水平及垂直磁滯曲線由振動試片磁力計(VSM)量測。四點探針法用以量測薄膜之電阻及磁電阻[3]。薄膜之低溫磁性質及交換耦合作用由超導量子干涉元件磁量儀(SQUID magnetometer)偵測而得。熱處理對薄膜之結構及磁性質影響將一併探討。
URI: http://hdl.handle.net/11455/47497
其他識別: NSC93-2216-E005-019
Appears in Collections:材料科學與工程學系

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