Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11455/56257
標題: 具蝕刻停止層的磊晶結構及其製造方法
作者: 武東星
洪瑞華
蔡宗晏
出版社: 材料科學與工程學系
摘要: 
一種具蝕刻停止層的磊晶結構的製造方法包含以下步驟:首先,於一第一基板上成長一圖樣化犧牲層,該第一基板部分面積露出,未受該圖樣化犧牲層遮蓋,接著,於該第一基板部分露出面積與圖樣化犧牲層上,側向磊晶成長一暫時磊晶層,而後,於該暫時磊晶層上成長一蝕刻停止層,再來,於該蝕刻停止層上成長一磊晶結構層,透過該蝕刻停止層形成於該磊晶結構層的下方,因此,後續在蝕刻移除該圖樣化犧牲層、該暫時磊晶層時,不至過度蝕刻該磊晶結構層,進而維持光電元件品質。
URI: http://hdl.handle.net/11455/56257
Appears in Collections:材料科學與工程學系

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