Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11455/56287
標題: 磊晶用基板
作者: 武東星
洪瑞華
吳嘉城
林伯融
出版社: 材料科學與工程學系
摘要: 
一種磊晶用基板包含一磊晶用的基材、一形成於基材的犧牲膜,及一磊晶形成於犧牲膜的半導體磊晶膜,犧牲膜包括複數膜區及複數由膜區界定的第一通道,每一膜區具有一奈米材料及複數由奈米材料界定的第二通道,濕式蝕刻劑藉由第一、第二通道得以快速地滲入犧牲膜中,進而快速蝕刻犧牲膜並有效地加速了移除基材的速率。
URI: http://hdl.handle.net/11455/56287
Appears in Collections:材料科學與工程學系

Show full item record
 

Google ScholarTM

Check


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.