Please use this identifier to cite or link to this item:
http://hdl.handle.net/11455/56800
標題: | 導光板模仁製程 | 作者: | 韓斌 林明澤 鄭武雄 陳偉哲 童麒嘉 |
摘要: | 一種導光板模仁製程,主要是於一基板至少一表面形成有不連續的多數披覆區,再將該基板表面依時間差暴露於蝕刻源中,使該基板表面或披覆區依據與蝕刻源接觸時間的長短,形成具有高度落差的多數凹部或多數凸部。藉此,以該模仁製成導光板及其表面具有深淺變化的多數網點,而能簡化該模仁的製程,並節省工時。 |
URI: | http://hdl.handle.net/11455/56800 |
Appears in Collections: | 精密工程研究所 |
Files in This Item:
File | Size | Format | Existing users please Login |
---|---|---|---|
4-4-3-1-3.pdf | 428.19 kB | Adobe PDF | This file is only available in the university internal network |
TAIR Related Article
Google ScholarTM
Check
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.