Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11455/56800
標題: 導光板模仁製程
作者: 韓斌
林明澤
鄭武雄
陳偉哲
童麒嘉
摘要: 
一種導光板模仁製程,主要是於一基板至少一表面形成有不連續的多數披覆區,再將該基板表面依時間差暴露於蝕刻源中,使該基板表面或披覆區依據與蝕刻源接觸時間的長短,形成具有高度落差的多數凹部或多數凸部。藉此,以該模仁製成導光板及其表面具有深淺變化的多數網點,而能簡化該模仁的製程,並節省工時。
URI: http://hdl.handle.net/11455/56800
Appears in Collections:精密工程研究所

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