Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11455/56888
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dc.contributor趙元寧zh_TW
dc.contributor.author楊錫杭zh_TW
dc.contributor.authorYANG, SHI HANGen_US
dc.date2004-06zh_TW
dc.date.accessioned2014-06-06T09:06:58Z-
dc.date.available2014-06-06T09:06:58Z-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11455/56888-
dc.description.abstract聚焦與感光式微透鏡陣列之製法,主要包括:一、預備步驟;二、曝光成型步驟;三、導電層成型步驟;四、複製翻模步驟;五、徽透鏡成型步驟;六、成品步驟。本發明利用光學微影之近接式曝光法,在光罩與光阻層之間隔一預定空隙,經曝光與顯影後,得以形成微透鏡陣列,再加以電鑄成形為模具,供日後量產。其兼具精密度高且生產成本低、製程穩定及應用範圍廣等各種優異效果;尤其,以不同的間隔部讓紫外線光源產生不同的繞射現象,並以不同的間距照射於光阻層而產生特定幾何外形之微透鏡陣列,可應用於各式微米領域的科技產品中。(一)、本案代表圖為:第二圖(二)、本案代表圖之元件代表符號簡單說明:光罩20 透光孔21 間隔部30抗光層40 基部50 間距dzh_TW
dc.language.isozh_TWzh_TW
dc.publisher精密工程研究所zh_TW
dc.relation.urihttp://twpat.tipo.gov.tw/tipotwoc/tipotwkmen_US
dc.title聚焦與感光式微透鏡陣列之製法zh_TW
dc.typePatentzh_TW
item.openairecristypehttp://purl.org/coar/resource_type/c_18cf-
item.openairetypePatent-
item.cerifentitytypePublications-
item.fulltextno fulltext-
item.languageiso639-1zh_TW-
item.grantfulltextnone-
Appears in Collections:精密工程研究所
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