Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11455/74756
標題: 以沉降法配合活性炭吸附處理半導體產業高濃度含砷廢水
作者: 邱誌忠
陳秀卿
曾昭桓
關鍵字: 半導體業;含砷廢水;鈣鹽沉降;活性炭吸附
出版社: 國立中興大學工學院;Airiti Press Inc.
Project: 興大工程學刊, Volume 15, Issue 3, Page(s) 197-207.
URI: http://hdl.handle.net/11455/74756
ISSN: 1017-4397
Appears in Collections:工學院
第15卷 第3期

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